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机译:用于极紫外光刻的精密光学非球面
Kania, D.R.; Gaines, D.P.; Sweeney, D.S.; Sommargren, G.E.; La Fontaine, B.; Vernon, S.P.; Tichnor, D.A.; Bjorkholm, J.E.; Zernike, F.; Kestner, R.N.;
机译:极紫外光刻系统复杂形状镜的5轴控制超精密加工
机译:用于极端紫外光刻原型系统的第一组光学器件的原子精密多层涂层
机译:用宽带等离子光学系统检查极端紫外线(EUV)光刻的随机缺陷
机译:极紫外光刻中由像差引起的CD误差及其可能的光学邻近校正补偿
机译:光学设计:从极端紫外线光刻到热敏光伏
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:极端紫外光刻化学放大抗蚀剂过程中随机现象与光学对比的关系
机译:用于极紫外光刻的反射装置,应用于其的极紫外光刻掩模,投影光学系统和光刻设备
机译:用于极紫外光刻的投射曝光系统的光学系统的照明光学器件中使用的光学组件,具有用于从照明光束路径输出极紫外光的输出镜
机译:用于反射光学元件,特别是用于软X射线和极紫外波长范围的清洁方法以及用于极紫外光刻设备的清洁方法包括加热反射光学元件
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